概括
这项研究引入了一种新方法,通过分析波面偏差来测量光学扭曲的光刻镜头. 该技术提高了用于先进半导体制造的测量速度和精度.
科学领域:
- 光学是什么?光学是什么?光学是什么?
- 计量学 计量学 计量学
- 半导体制造业 半导体制造业
背景情况:
- 石版投影镜片中的光学扭曲会降低图像质量,并导致重叠错误.
- 这些问题阻碍了印刷图案的小型化,这是半导体制造的关键目标.
研究的目的:
- 提出和验证一种新的技术,用于测量石版投影镜头中的光学扭曲.
- 为了提高测量速度,准确性,并考虑到位移阶段定位错误.
主要方法:
- 使用多通道双网状侧切割干扰仪,同时测量多个瞳孔平面场点的波浪偏差.
- 从特定的泽尼克项 (Z2和Z3) 与图像位置转移之间的比例关系中推导出光学扭曲.
主要成果:
- 拟议的方法成功地同时获取波面偏差和图像扭曲信息.
- 在0.57数值孔径的光刻投影镜头上的实验验证证证了该方法的可行性.
结论:
- 开发的技术提供了一种更快,更准确的方法来评估光刻镜片的扭曲.
- 这一进步支持半导体光刻技术中印刷图案的持续小型化.


