对于高功率激光器的宽带和广角反反射结构的纳米印记光刻

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 光学和光子学 在光学和光子学.

背景情况:

• 抗反射涂层对于最小化光学系统中的光损耗至关重要.
• 传统的涂层往往在宽带性能,广角接受度和高激光诱导损伤值方面扎.

研究的目的:

• 为了证明高效的反射涂层使用亚亚巴特指数匹配.
• 为了实现高光学传输,无色度和使用纳米印记光刻法实现广角接受.

主要方法:

• 通过纳米印记光刻法制造反射涂层.
• 光学属性的表征,包括传输,无色度和角度接受.
• 对激光诱导损伤值和低吸收的评估.

主要成果:

• 实现了高总传输 (99.5%~99.8%从390~900nm,99%~99.5%从800~1600nm).
• 证明了广角接受 (T>99%至50度).
• 暴露在高激光诱导损伤值 (>5 J/cm2在fs,>150 J/cm2在ns模式) 和低吸收 (<1.3 ppm).

结论:

• 纳米印记光刻法可实现高效的反射涂层,具有出色的光学性能.
• 开发的涂层符合高功率激光系统和宽带光学应用的严格要求.
• 阿迪亚巴特指数匹配为先进的光学涂层设计提供了可行的途径.