概括
一种新的二次涂层方法显著降低了--- (Ge-Sb-Se) 光子装置的传输损失和侧墙粗度. 这种技术提高了微环共振器的质量因子 (Q-因子),从而实现了高性能集成化物光子学.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光电学是指光电子产品.
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 对于光子设备的传统干蚀刻通常会导致高侧墙粗度和传输损失.
- - - - (Ge-Sb-Se) 石灰波导和微环共振器对于集成光子应用至关重要.
研究的目的:
- 引入和验证一种二次涂层方法,以提高Ge-Sb-Se光子装置的性能.
- 为了减少Ge-Sb-Se波导中的传输损失和侧墙粗.
- 为了提高Ge-Sb-Se微环共振器的质量因子 (Q-因子).
主要方法:
- 制造Ge-Sb-Se波导和微环共振器,使用紫外线曝光/电子束光刻和感应合等离子蚀刻.
- 使用10纳米厚的Ge-Sb-Se薄膜通过热蒸发作为二次涂层.
- 在二次涂层前后测量波导传输损失和微环共振器Q因子.
主要成果:
- 二次涂层减少了波导侧墙的粗度,从11.96nm降至6.52nm.
- 传输损失从2.63±0.19dB/cm降至1.86±0.11dB/cm,波长为1.55微米.
- 在一致的合条件下,微环共振器的Q系数提高了47.5%.
结论:
- 二次涂层方法在制造低损耗的Ge-Sb-Se光子设备方面是有效的.
- 这种技术提供了一种可行的方法来提高集成的石化光子装置的性能.
- 改善侧墙光滑性和减少光学损失是高Q因子共振器的关键好处.
