通过范德瓦尔斯异构结构提高GaN单层的基里温度

Qianqian Wu1, Jin Wang1, Ting Zhi1

  • 1College of Electronic and Optical Engineering & College of Flexible electronics (Future Technology), Nanjing University of Posts and Telecommunications, Nanjing 210023, People's Republic of China.

Nanotechnology
|April 11, 2024
PubMed
概括

研究人员使用GaN和VS2开发了一种新的范德瓦尔斯异构结构,达到室温以上的高基里温度. 这种材料对先进的自旋电子设备和高密度数据存储应用具有前景.