一项关于高质量纹多层石墨烯阴极现场发射特性的研究
Wenmei Lv1, Lian Wang1, Yiwei Lu1
1School of Physical Science and Technology, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China.
Nanomaterials (Basel, Switzerland)
|April 12, 2024
概括
研究人员使用多层石墨烯 (MLG) 通过气泡辅助化学蒸汽沉积开发了稳定场辐射 (FE) 阴极. 优化了带有银色缓冲层的印MLG阴极,实现了高电流密度和出色的排放稳定性.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 表面科学是一门学科.
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 场辐射 (FE) 需要具有低工作功能的阴极材料,高热/电导率和稳定性.
- 多层石墨烯 (MLG) 是一个有前途的候选人,因为它的内在特性.
- 以前的方法面临着粘附和稳定性方面的挑战.
研究的目的:
- 开发高质量的纹MLG用于FE阴极,使用气泡辅助化学蒸汽沉积 (B-CVD).
- 研究和提高基于MLG的FE阴极的排放特性和稳定性.
- 探索印和银色缓冲层对正极性能的影响.
主要方法:
- 使用B-CVD方法制造MLG.
- 通过自旋涂层和丝网印刷来制备FE阴极.
- 在MLG和基板之间加入一个银色缓冲层.
- 场辐射特性 (启动场,值场,电流密度,均性,稳定性) 的表征.
主要成果:
- 螺旋涂层的MLG阴极显示出高的内在排放电流密度 (~7.9 mA/cm2).
- 印阴极表现出更好的排放稳定性.
- 银色缓冲层进一步提高了综合场排放性能.
- 优化的阴极实现了低启动 (~1.5 V/μm) 和值 (~2.65 V/μm) 场,高电流密度 (~10.5 mA/cm2) 和良好的均性.
- 证明了出色的排放稳定性,在4小时内电流波动仅为6.28%.
结论:
- B-CVD有效地生产高质量的纹MLG用于FE应用.
- 印与银色缓冲层相结合,显著提高了基于MLG的FE阴极的稳定性和整体性能.
- 优化的MLG阴极显示了先进的场辐射装置的潜力.
