为单体3D集成优化超薄2D晶体管:对直接生长的纳米晶体互连和埋藏的接触进行研究
Junseong Bae1, Hyeyoon Ryu1, Dohee Kim1
1Department of Electronic Engineering, Kyung Hee University, Yongin, 17104, Republic of Korea.
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
|April 12, 2024
概括
研究人员开发了一种用于超薄晶体管和石墨联网的新型晶圆尺度合成方法,显著降低了3D集成电路的接触电阻.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 电气工程 电气工程
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 单立体3D集成要求改善更薄堆的互连,更好的散热和减少信号延迟.
- 像石墨烯这样的碳材料为未来的互连提供了出色的电热性能.
- 一个关键的挑战是实现2D半导体和石墨材料之间的低接触电阻.
研究的目的:
- 开发一个晶圆尺度合成2D半导体和石墨连接器之间的低接触电阻.
- 为了增强先进的3D集成电路的互连特性.
- 为了证明超薄晶体管和互连堆的可行性.
主要方法:
- 提出了一个晶圆尺度合成干转移的2D半导体和成长的纳米晶体石墨互连.
- 在混合石墨互连中使用金属合物来降低板材阻力.
- 引入了埋藏的石墨接触,以最大限度地降低接触电阻.
主要成果:
- 与金属片相比,通过金属合混合石墨连接实现了84%的板材阻力降低.
- 使用埋藏的石墨接触物,其接触阻力比使用散装金属接触物低17倍.
- 成功制造了低于7nm的活性层厚度的晶体管,显示了简单的逻辑功能.
结论:
- 开发的方法使超薄晶体管和石墨连接器的接触电阻低.
- 这项技术促进了未来3D集成电路 (IC) 的异质集成.
- 超薄的堆提供了低的寄生虫抵抗力和易于蚀刻的中间层.
更多相关视频
09:20Fabrication of Low Temperature Carbon Nanotube Vertical Interconnects Compatible with Semiconductor Technology
Published on: December 7, 2015
7.7K
08:12Ohmic Contact Fabrication Using a Focused-ion Beam Technique and Electrical Characterization for Layer Semiconductor Nanostructures
Published on: December 5, 2015
12.3K
