大麻使用障碍中的皮层形态学:对跨直接电流刺激治疗的影响

科学领域:

• 神经科学是一个神经科学.
• 医疗成像医学成像
• 计算建模 计算建模

背景情况:

• 药物使用障碍 (SUDs) 可以改变大脑结构,可能会影响跨直流刺激 (tDCS) 的电场 (EF) 分布.
• 缺乏对EF及其与SUDs皮质架构的关联的定量组级分析.
• 本研究介绍了一种分析计算头模型的方法,以评估皮质形态对tDCS诱导的EF的影响.

研究的目的:

• 调查与健康对照组 (HC) 相比,与大麻使用障碍 (CUD) 患者的tDCS诱导的EF和它们与皮质结构的关联的群体水平差异.
• 使用个性化计算头模型,模拟结构变化对EF分布的影响.

主要方法:

• 基于全脑表面的形态学分析,比较了20名CUD患者和22名年龄相匹配的HC患者之间的皮质厚度,体积和表面积.
• 使用个性化计算头模型对背侧前额叶皮层进行双边tDCS的模拟.
• 研究结构变化对EF分布的影响.

主要成果:

• 在CUD和HC组之间的前额叶皮层内没有发现EFs的显著差异.
• 在左后中心和右上旋中观察到EF的显著差异,在CUD组中变异性更高.
• 在CUD和HC组之间,在特定的大脑区域中发现了皮层面积,厚度和体积的显著差异.

结论:

• 大脑形态和tDCS诱导的EF可能会在CUD患者中发生变化.
• 在CUD和HC组之间的EF差异并不总是与显示结构变化的大脑区域重叠.
• 需要进一步调查,以确定患有CUD的个体是否需要基于有效调节的目标位置不同的tDCS刺激剂量.