通过波传播模拟对AS的X射线/EUV纳米光刻装置进行评估

科学领域:

• 光学和光子学 在光学和光子学.
• 材料科学与工程 材料科学与工程
• 同步子辐射应用.

背景情况:

• 先进的光刻技术对于制造下一代微电子设备至关重要.
• 极端紫外线 (EUV) 和软X射线 (SXR) 波长是高分辨率图案的关键.
• 同步光源为先进的光刻画提供了必要的连贯性和稳定性.

研究的目的:

• 为了评估澳大利亚Synchrotron的SXR光束线的光学性能.
• 评估它是否适合开发干扰光刻法.
• 为了模拟和验证光罩应用的照明特性.

主要方法:

• 为APPLE-II波动器和SXR光束线构建一个全面的物理光学模型.
• 在光罩位置模拟照明特性.
• 模型的验证使用试验测量波浪器波强度分布.
• 评估光罩的几何约束和可实现的性能.

主要成果:

• 模拟并评估了SXR光束线的光学性能,用于干扰光刻.
• 波动器波器强度比可以使用光束线光学准确测量和控制.
• 该研究确定了实现完全空间连贯照明的可实现性能.

结论:

• 澳大利亚Synchrotron的SXR光线线显示了先进的光刻开发的潜力.
• 精确控制和测量波浪器辐射特性是可行的.
• 这些发现提供了关于光罩限制和高分辨率图案设计的性能的见解.