薄膜酸的晶圆尺度定期抛光薄膜酸
Mengwen Chen1, Chenyu Wang1, Xiao-Hui Tian1
1National Laboratory of Solid State Microstructures, School of Electronic Science and Engineering, School of Physics, College of Engineering and Applied Sciences, Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing University, Nanjing 210093, China.
Materials (Basel, Switzerland)
|April 27, 2024
概括
在绝缘体 (LNOI) 上对基酸盐进行晶圆尺度的周期抛光,以高保真度实现. 这种可扩展的技术使先进光子集成电路的高通量制造具有成本效益.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光子学 是一个光子学.
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 在绝缘体 (PPLNOI) 上定期极化酸对于非线性光子集成电路 (PIC) 至关重要.
- 目前的域逆转技术仅限于芯片级处理,阻碍了大规模集成.
研究的目的:
- 为了展示一个可扩展的,晶圆级定期抛光技术薄膜酸.
- 为了克服芯片级抛光的局限性,用于增强的非线性光子应用.
主要方法:
- 在4英寸LNOI晶圆上开发了晶圆尺度周期抛光方法.
- 使用目标分组电极和可适应的线宽度,以实现高效的域逆转.
- 在~1厘米2面积实现周期性抛光,控制反转长度和周期.
主要成果:
- 在整个晶圆上展示了高保真度的周期性测试,成功率为100%.
- 在域名逆转方面实现了平均98%的高质量率.
- 与芯片级方法相比,展示了高吞吐量,稳定性,可扩展性和成本效益.
结论:
- 开发的晶圆尺度技术从根本上说是可扩展的和具有成本效益的.
- 这一进步有望显著提高光通信,光子神经网络和量子光子学的性能.
- 允许在单一芯片上集成多个非线性组件,具有统一的性能.
