水性可开发和CO2来源的化学放大光电阻具有高性能
Xin-Yu Lu1, Rui-Sheng Zhang1, Guan-Wen Yang1
1MOE Laboratory of Macromolecular Synthesis and Functionalization, Department of Polymer Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou, 310058, China.
Angewandte Chemie (International ed. in English)
|May 6, 2024
概括
新的二氧化碳聚碳酸为先进的半导体制造提供高性能光电阻材料. 这些新的聚合物使水基开发成为可能,并表现出极好的灵敏度和分辨率,用于深紫外线光刻.
科学领域:
- 聚合物化学 聚合物化学
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 半导体行业需要先进的光电阻来实现集成电路的小型化.
- 含有碳酸盐组的聚合物树脂由于其高透射率和酸敏感性而显得有前途.
- 开发环保和高性能光电阻材料至关重要.
研究的目的:
- 合成和评估新型水性可开发的CO2来源的聚碳酸盐 (CO2-PCs) 作为光电阻.
- 为了研究它们在深紫外线 (DUV) 石版画中的性能.
- 评估它们对未来纳米制造应用的潜力.
主要方法:
- 交替的二氧化碳和环氧化物与酸可分裂组的共聚化,使用四核有机催化剂.
- 作为化学放大CO2-PCs的表征在DUV光刻画中存在阻力.
- 评估电阻性能,包括灵敏度,对比度,分辨率和蚀刻电阻.
主要成果:
- 通过受控的共聚合合成可发展的水性CO2-PCs.
- 获得了1.9mJ/cm2的灵敏度,7.9的对比度和750nm的分辨率.
- 与聚三乙烯酸相比,显示出38%的更高蚀刻性.
结论:
- 二氧化碳来源的聚碳酸是用于DUV光刻的有效化学放大电阻.
- 与商业替代品相比,开发的光电阻表现出优越的性能.
- 这些材料对DUV和极紫外线 (EUV) 纳米制造具有重大潜力.
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