膜厚度对粘合质量和粘合机制的影响
Tsan-Feng Lu1, Kai-Ning Hsu1, Ching-Chi Hsu1
1Department of Materials Science and Engineering, National Yang Ming Chiao Tung University, Hsinchu 30010, Taiwan.
Materials (Basel, Switzerland)
|May 11, 2024
概括
这项研究调查了铜膜厚度如何影响混合粘合. 增加铜厚度通过减少界面空隙来提高粘合质量,这对于可靠的微电子连接至关重要.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 微电子工程 微电子工程
- 表面科学是一门学科.
背景情况:
- 混合键是一种关键的微电子互连技术.
- 化学机械抛光 (CMP) 对于实现所需的表面深度至关重要.
- 由于表面深陷,可以形成界面空隙,从而损害键完整性.
研究的目的:
- 分析铜膜厚度对混合粘合质量的影响.
- 了解由不同厚度的铜膜影响的粘合机制.
- 为了研究铜膜厚度和界面空隙形成之间的关系.
主要方法:
- 在粘接接口上引入了人工空隙.
- 实验是在250°C和300°C进行的.
- 铜膜厚度被系统地变化以评估其影响.
主要成果:
- 铜膜厚度的增加导致了更高的粘合率.
- 相反,更大的铜膜厚度导致更低的空隙分数.
- 空隙高度变化与粘合机制和粘合分数相关.
结论:
- 铜膜厚度是优化混合粘合的关键参数.
- 控制铜膜厚度可以减轻接口空隙的形成.
- 了解这些关系可以提高混合互连的可靠性.
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