原子层沉积TiO2纳米膜在植入物上,以减少颗粒的释放

Xiangyu Zhao1, Xiaoxuan Zhang1, Zilan Zhou1

  • 1Shanxi Medical University School and Hospital of Stomatology, Taiyuan, China.

概括

在植入物上的二氧化 (TiO2) 涂层的原子层沉积 (ALD) 显著减少了颗粒的释放,摩擦和腐蚀. 优化ALD周期可提高植入物耐用性和生物相容性,用于手术应用.