通过a-C:H:Si薄膜减少粉末墙摩擦
Christof Lanzerstorfer1, Christian Forsich1, Francisco Delfin1,2
1School of Engineering, University of Applied Sciences Upper Austria, Stelzhamerstraße 23, 4600 Wels, Austria.
Materials (Basel, Switzerland)
|May 25, 2024
概括
一种新型的无形化碳膜 (a-C:H:Si) 显著降低了粉末的墙壁摩擦角度. 这种效应在较粗的粉末中最为明显,并且随着墙壁的正常应力而增加.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 粉末技术技术 粉末技术
- 部落学 (tribology) 是一个学科.
背景情况:
- 墙壁摩擦角度对于粉末的流动性至关重要.
- 无形化碳 (a-C:H:Si) 薄膜可以减少钢表面的墙壁摩擦.
研究的目的:
- 调查粉末材料,墙壁正常应力和颗粒大小对a-C:H:Si薄膜减少摩擦的影响.
- 为量化涂有a-C:H:Si.Si的各种粉末壁面摩擦角的减少.
主要方法:
- 使用舒尔兹环剪切测试仪测量墙壁摩擦角度.
- 测试了三个粉末材料:氧化,碳酸和碳化.
- 研究的颗粒大小从4微米到大约150微米不等.
主要成果:
- a-C:H:Si涂层降低了所有测试的粉末的壁面摩擦角度,由于粉末化学而造成的差异很小.
- 更粗的粉末在墙壁摩擦角度中表现出最大的减少 (10°12°),这在很大程度上独立于应力.
- 更细和中型粉末显示较低的,压力依赖的减少,在较高的墙壁正常应力下减少的增加.
结论:
- a-C:H:Si膜有效地减少了粉末壁上的摩擦,特别是对于较粗的颗粒.
- 减少摩擦的机制与接触压力诱导的表面石墨化有关,解释了精细粉末的应力依赖性.
