使用空心阴极气流喷雾技术,使用酸盐添加的氧化锡薄膜
Fangfang Huo1, Ruslan Muydinov1, Bertwin Bilgrim Otto Seibertz1
1Institute für High-Frequency and Semiconductor-System Technologies, Technische Universität Berlin, Einsteinufer 25, 10587, Berlin, Germany.
Heliyon
|May 27, 2024
概括
添加氧化锡 (TTO) 薄膜通过气流喷射 (GFS) 实现了超低电阻. 基质温度显著影响TTO薄膜特性,在270°C时观察到最佳的兴奋剂效应.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 薄膜技术 薄膜技术
- 半导体物理 半导体物理
背景情况:
- 锡氧化物 (SnO2) 是一个有前途的透明导电氧化物.
- 兴奋剂SnO2增强了其电气和光学特性.
- 气流喷射 (GFS) 为薄膜沉积提供了优势.
研究的目的:
- 为了制备和表征添加氧化锡 (TTO) 薄膜.
- 为了研究基板温度对TTO薄膜性能的影响.
- 为了证明GFS在生产高质量的TTO片方面的有效性.
主要方法:
- 在玻璃基板上进行反应性空心阴极气流喷射 (GFS).
- 在喷之前在真空下进行现场加热.
- 使用SEM,XRD和AFM进行表征.
主要成果:
- 实现了2.02 × 10^-3 Ω cm的超低电阻,具有高载体度 (2.55 × 10^20 cm^-3).
- 薄膜电阻性随着基板温度的增加而下降.
- 坦兴奋剂在270°C时对电阻和载体度产生了更强的作用.
- 基质温度升高和Ta兴奋剂降低了折射率.
结论:
- GFS使得高性能TTO薄膜的可重复制造成为可能.
- 基板温度是优化TTO性能的一个关键参数.
- 与磁铁子喷射相比,GFS具有优势,包括稳定的运行和不需要目标氧化控制.
