适合温度敏感电子产品的符合型Zn-二甲基薄膜,通过工业可行的原子/分子层沉积技术生长
Anish Philip1,2, Topias Jussila1, Jorit Obenlüneschloß3
1Department of Chemistry and Materials Science, Aalto University, Espoo, FI-00076, Finland.
Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)
|June 9, 2024
概括
原子/分子层沉积 (ALD/MLD) 在低温下产生稳定,合规的 Zn-有机薄膜. 这种无溶剂的方法非常适合灵活的电子和3D微电子应用.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 化学工程是化学工程的重要组成部分.
背景情况:
- 原子/分子层沉积 (ALD/MLD) 是制造薄膜的一种多功能技术.
- 开发具有理想性质的新金属有机材料对于先进的应用至关重要.
研究的目的:
- 展示一种用于制造 Zn-有机薄膜的新型 ALD/MLD 工艺.
- 研究这些薄膜的特性,包括稳定性,一致性和组成.
主要方法:
- 使用无溶剂的ALD/MLD工艺,使用bis-3-(N,N-dimethylamino) propyl [Zn(DMP) ]和1,4-二醇 (BDT) 前体.
- 使用拉瑟福反射光谱法 (RBS) 和扫描电子显微镜 (SEM) 描述了膜的特性.
- 采用横向高比例 (LHAR) 试验基板来评估符合性.
主要成果:
- 在60°C时实现了稳定于空气的Zn-BDT薄膜,每周期高增长率 (GPC) 为4.5 Å.
- 通过RBS确认Zn/S比为0.5,与拟议的结合方案一致.
- 在LHAR结构 (面积比为400) 中,膜透度超过200微米的特殊符合性被证明.
结论:
- 开发的ALD/MLD工艺可以在低温下制造高度合规和稳定的Zn-有机薄膜.
- 这些Zn-BDT薄膜具有电绝缘性,适合用作屏障层.
- 该技术对温度敏感和灵活的电子设备和3D微电子具有重大潜力.
