在各种半导体上使用代码定位蚀刻技术进行无 lithography 的纳米制造

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 纳米技术纳米技术
• 表面科学是一门学科.

背景情况:

• 半导体纳米制造通常依赖于复杂的光刻技术.
• 开发无光刻法方法对于高效的微型和纳米制造至关重要.
• 基于等离子体的工艺为材料修饰和结构形成提供了独特的途径.

研究的目的:

• 为了研究新的codeposition蚀刻方法用于无光刻的纳米制造.
• 在各种半导体上探索使用等离子体和杂质形成纳米/微结构的过程.
• 了解影响结构形成和核化机制的关键参数.

主要方法:

• 采用用等离子体和 (Mo) 杂质的编码位蚀刻技术.
• 在杂质存在的情况下,用贵重气体等离子体对各种半导体基材进行辐射.
• 分析结构形成对基板喷涂产量的依赖,杂质沉积率和基板材料的依赖.

主要成果:

• 在半导体基板上成功形成了纳米/微结构,其喷射产量低于种子杂质 (Mo).
• 形成结构的密度,面积和高度都取决于杂质沉积率和基板材料.
• 基于对结构形成的时间依赖观测,提出了两种不同的杂质核化机制.

结论:

• 代码位置蚀刻是半导体纳米制造的一种可行的无光刻法方法.
• 与杂质种子相对的基质喷涂产量是结构形成的关键因素.
• 杂质沉积率和基板材料显著影响得到的纳米结构的特性.