概括
这项研究引入了一种新的自动对焦方法,使用十字线投影来进行激光直接写作光刻. 这种技术增强了图像信息,使精确的焦平面检测和精确的样本聚焦成为可能.
科学领域:
- 光学和光子学 在光学和光子学.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 激光直写光刻技术缺乏表面图像信息,使焦点平面的确定变得复杂.
- 精确的聚焦对于激光光刻画中的高分辨率图案至关重要.
研究的目的:
- 提出和验证一种自动对焦方法,使用十字线投影来进行激光直接写字 lithography.
- 为了改善激光光刻系统的聚焦环境和精度.
主要方法:
- 在照明路径中集成了一个十字线投影方法,对样品表面进行成像.
- 呈现了一个新的聚焦曲线划分,利用来自十字线投影的垂直特征.
- 基于新划分设计的自动对焦过程,以识别对焦区域并过平面区域干扰.
主要成果:
- 交叉镜头投射提供了必要的图像信息,用于聚焦.
- 新的聚焦曲线划分有效地区分了聚焦和平面区域.
- 实验结果显示,自动对焦精度约为0.15微米.
结论:
- 拟议的交叉投射自动聚焦方法为激光直接写字光刻法中准确聚焦提供了强大的解决方案.
- 这种方法增强了图像信息,并简化了聚焦过程,提高了整体光刻性能.


