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Updated: Jun 24, 2025

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Fabrication of Silica Ultra High Quality Factor Microresonators
Published on: July 2, 2012
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概括
五秒激光处理通过诱导无形化和剥离来修改单晶 (c-Si). 这种技术精确地修剪了c-Si光子装置中的相位误差,使双向光谱移位成为可能,以改善制造.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光学和光子学 在光学和光子学.
- 激光物理 激光物理
背景情况:
- 单晶 (c-Si) 对于光子设备至关重要.
- 五秒激光处理是微/纳米制造的关键技术.
研究的目的:
- 研究c-Si.Si.中的femtosecond激光修饰机制.
- 分析该技术在c-Si光子设备的修剪相位错误中的应用.
主要方法:
- 使用光学显微镜,SEM和AFM进行微/纳米结构的表征.
- 通过双温度模型分析物理修饰过程.
- 拉曼光谱和TEM用于分析无形形成和层厚度.
- 对折射率变化进行圆测量.
- 在c-Si微波导上对秒激光效应的研究.
主要成果:
- 五秒激光流动会诱导不同的微/纳米结构,如无形化和废弃.
- 较高的激光流量增加无形含量,具有均的无形层厚度 (~30 nm).
- 形态化增加了折射率,而剥离则降低了它,使微环装置的双向光谱转移成为可能.
结论:
- 五秒激光修饰可以精确控制c-Si特性.
- 该技术为制造和纠错基于c-Si的光子设备提供了实用解决方案.

