优化波导制造工艺在-酸在绝缘体平台上的
Ch S S Pavan Kumar1, Nikolai N Klimov2, Paulina S Kuo1
1Information Technology Laboratory, National Institute of Standards and Technology, 100 Bureau Drive, Gaithersburg, MD 20899.
AIP advances
|June 25, 2024
概括
研究人员优化了低损耗基在绝缘体 (LNOI) 波导的制造工艺. 这项工作解决了纳米制造的挑战,使量子通信和传感应用的先进光子设备成为可能.
科学领域:
- 光子学 是一个光子学.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米制造的纳米制造
背景情况:
- 酸 (LN) 对于光谱学,遥感和量子通信至关重要.
- 在绝缘体上酸 (LNOI) 技术增强了LN特性,如模式限制和电场重叠.
- LNOI使得具有超宽带宽,低电压和低功耗的电光调节器成为可能,使得LNOI设备成为集成光子学中的关键参与者.
研究的目的:
- 为了应对纳米制造在生产低损耗酸在绝缘体 (LNOI) 波导上存在的重大挑战.
- 系统地调查和优化关键的制造步骤,包括硬面具选择,等离子蚀刻和蚀刻后清洁.
- 为低损耗LNOI光子结构建立可靠的制造配方.
主要方法:
- 研究了各种适合酸蚀刻的硬面具材料.
- 优化的感应合等离子体 (ICP) 蚀刻参数,用于精确的LNOI波导定义.
- 开发并测试了蚀刻后清洁程序,以减轻波导侧墙上的材料重新放置.
主要成果:
- 在LNOI上成功制造了光学波导,总损失为-10.5dB.
- 取得的损失值与现有文献中报告的损失值相比较.
- 证明了低损耗LNOI波导的可行制造工艺.
结论:
- 该研究提供了对优化低损耗LNOI波导的制造工艺的全面了解.
- 开发的制造配方为推进LNOI技术提供了宝贵的资源.
- 解决纳米制造的挑战对于实现LNOI设备在集成光子学中的全部潜力至关重要.
