对聚焦离子束喷射多层基板的水平设定模拟
Alexander V Rumyantsev1, Nikolai I Borgardt1, Roman L Volkov1
1National Research University of Electronic Technology - MIET, Bld. 1, Shokin Square, Zelenograd, Moscow, 124498, Russia.
Beilstein journal of nanotechnology
|July 2, 2024
概括
聚焦离子束处理模拟准确地预测了多层表面的演变. 该研究验证了对二氧化在上实验磨削的模拟准确性,并考虑了再沉积和离子散射.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 表面科学是一门学科.
背景情况:
- 聚焦离子束 (FIB) 处理对于纳米制造至关重要.
- 了解FIB削过程中的表面演变对于精确的材料去除至关重要.
- 多层结构存在独特的挑战,由于差分喷射和重新配置.
研究的目的:
- 在FIB处理过程中模拟和实验验证多层样本的表面演变.
- 为了研究原子重置和离子反射对磨削精度的影响.
- 评估复杂结构的水平设置方法模拟的预测能力.
主要方法:
- 使用水平设置方法模拟FIB削.
- 嵌入原子重置和反散离子效应到模拟中.
- 用蒙特卡洛模拟来进行喷射和离子散射数据.
- 在实验中研磨了二氧化/结构,并用STEM分析了横截面.
- 将模拟结果与实验数据和元素图 (EDX) 进行比较.
主要成果:
- 模拟和实验结构配置文件 (沟,盒子) 之间的满意一致.
- 模拟准确预测了对不对称盒子的深度和形状.
- 在预测侧墙形态与显著的重新配置中发现了轻微的不准确性.
- 氧气分布的数值数据与实验EDX映射有很好的相关性.
结论:
- 开发的水平设置方法模拟有效地模拟了FIB处理期间的多层表面演变.
- 该模拟为预测和优化复杂结构的FIB削提供了有价值的工具.
- 需要进一步精细化,以充分捕捉侧墙特征上的重新配置效应.
