通过射频喷射获得的NiCuO_xN_y涂层的表征:结构,形态和光学特性

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 固态物理 固态物理
• 薄膜技术 薄膜技术

背景情况:

• 技术进步需要多功能半导体材料.
• 稀土元素提供了所需的半导体特性,但很少.
• 电子应用需要丰富且低成本的替代方案.

研究的目的:

• 为了合成-铜二元氧化薄膜.
• 为了研究气流对薄膜特性的影响.
• 探索这些新型材料的潜在半导体应用.

主要方法:

• 活性射频喷雾被用于沉积铜氧化膜.
• 描述包括X射线衍射 (XRD),SEM,AFM和XPS.
• 通过透射率和吸收率测量来评估光学性能.

主要成果:

• 可调节的晶体结构 (优先生长或多晶体) 基于流.
• 金属氧化物和氧化的形成,包括新的"NiCuOxN<0xE1><0xB5><0xA7>"阶段.
• 随着气流量的增加而减小颗粒大小,透明度超过1000nm,光带间隙为1.211.86 eV.

结论:

• 可以合成具有可控制性质的-铜氧化膜.
• 这些薄膜为稀土半导体提供了一个有希望的,具有成本效益的替代品.
• 发现的新型相和可调节的光学特性需要对电子设备进行进一步的研究.