CeO2膜的原子层沉积具有一种新型异体质的Ce(III) 复合体
Wenyong Zhao1, Hong Zhou1, Jiahao Li1
1International Joint Research Center for Photoresponsive Molecules and Materials, School of Chemical and Material Engineering, Jiangnan University, 1800 Lihu Road, Wuxi 214122, China.
Molecules (Basel, Switzerland)
|July 13, 2024
概括
合成了四种新的异体质 (cerium) 复合物. 综合体2含有N-甲基乙二胺,显示出作为氧化膜的原子层沉积前体的潜力.
科学领域:
- 无机化学 无机化学
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 对于先进的材料应用,正在探索异体质 (III) 复合物.
- 开发用于原子层沉积 (ALD) 的高效前体对于薄膜制造至关重要.
研究的目的:
- 为了合成和表征新的异体质 (III) 复合物.
- 评估这些复合物的适用性,作为氧化 (CeO2) 通过ALD.通过薄膜沉积的前体.
- 调查连接体结构和与离子复合的能力之间的相关性.
主要方法:
- 合成四种异构体Ce (III) 复合物:Ce (thd) 3-,Ce (thd) 3-MEDA,Ce (thd) 3-MOMA,以及Ce (thd) 3-DMDE.
- 使用1H-NMR,元素分析和X射线单晶衍射进行了表征.
- 热重力测量分析和蒸汽压力测量以评估热稳定性和挥发性.
- 在SiO2/Si (100) 基板上使用Ce(thd) 3-MEDA (复合2) 的CeO2薄膜的原子层沉积 (ALD).
主要成果:
- 成功合成并阐明了四种不同的异构体Ce (III) 复合物的结构.
- 热重力测量分析和蒸汽压力数据表明,与含的双酸连接体相比,与混合氧-连接体相比,具有更强的复合性.
- 复合物2 (Ce(thd) 3-MEDA) 显示出自我限制的沉积特性,适合ALD.
- 在SiO2/Si (100) 晶圆上沉积一个CeO2膜,使用复杂2实现了.
结论:
- 配体的选择显著影响了与离子的复合能力.
- 已确定Ce(thd) 3-MEDA (复合体2) 为氧化薄膜原子层沉积的有前途的前体.
- 这项研究有助于开发用于高性能薄膜应用的新型前体.
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