聚乙烯-块-多面多聚合物基氧单层的定向自组装通过纳米子用于纳米纹理
Cheng-Hsun Tung1, Feng Ye2,3, Wei-Yi Li2,3
1Department of Chemical Engineering, National Tsing Hua University, Hsinchu, 30013, Taiwan.
Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)
|July 20, 2024
概括
这项研究引入了基于多面寡合性丝素 (POSS) 的新型巨型表面活性剂,用于创建10nm以下的纳米模式. 这些基于POSS的表面活性剂能够快速自组装和高蚀刻对比度,用于先进的光刻.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 聚合物化学 聚合物化学
背景情况:
- 定向自组装 (DSA) 对于制造纳米尺度模式至关重要.
- 区块共聚合物 (BCP) 是常用的,但可能受到特征大小和组装速度的限制.
- 多面体寡合性丝二氧化 (POSS) 作为新材料的构建块提供了独特的特性.
研究的目的:
- 为了开发一种新的巨型表面活性物质用于纳米图案.
- 为了实现对齐的10nm以下线路纳米模式.
- 为了利用基于POSS的材料的快速自组装和高蚀刻对比度.
主要方法:
- 合成聚乙烯块-奥利戈 (((二甲基西洛) 替代POSS (PS-b-oDMS7POSS) 巨型表面活性剂.
- 通过电子束光刻法制造的纳米沟中有针对性的自组装.
- 反应性离子蚀刻 (RIE) 使用O2优化进行模式传输.
主要成果:
- 形成有序的纳米结构单层与对齐的oDMS7POSS气.
- 实现精确定义的直线纳米模式,具有10nm以下的关键尺寸.
- 在oDMS7POSS和聚烯 (PS) 组件之间展示高蚀刻对比度.
结论:
- 巨型表面活性物PS-b-oDMS7POSS可以快速自组装和精确的纳米图案.
- 这种方法提供了一个成本效益高的路线,以10nm以下的特征尺寸为光刻.
- 开发的方法对需要高分辨率的高级光刻应用具有前景.
