顺序自组装的聚乙烯-块-聚二甲基西洛为3D纳米纹路通过溶剂化

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 纳米技术纳米技术
• 聚合物化学 聚合物化学

背景情况:

• 块共聚合物 (BCP) 自组装成有序的纳米结构.
• 溶剂回火是BCP薄膜形态控制的一个关键技术.
• 制造多层或等级纳米模式仍然具有挑战性.

研究的目的:

• 开发一种使用顺序自组装制造多层纳米模式的策略.
• 从单个BCP中实现多种BCP薄膜形态 (六角孔状板状,圆柱体,球体).
• 为制造纳米-MEMS制造创建3D地形纳米图案.

主要方法:

• 聚乙烯块-聚二甲基 (PS-b-PDMS) 块共聚合物的顺序自组,由溶剂回火.
• 调整溶剂选择性以控制BCP薄膜形态.
• 反应性离子蚀刻 (RIE) 用于将地形图案转移到SiO2.
• 用RIE进行层次层次的过程,用于层次结构的纹理创建.

主要成果:

• 通过调整溶剂选择性来实现各种自组装的BCP形态 (HPL,圆柱体,球体).
• 使用RIE.制造了有序的地形SiO2阵列 (孔,线,点).
• 成功创建了洞对点和线对洞等级纳米模式.
• 实验证明并理论证实了3D纳米图案的可行性.

结论:

• 通过溶剂化,单组合PS-b-PDMS的顺序自组装使3D纳米图案成为可能.
• 开发的过程适用于创建复杂的纳米结构.
• 这为使用BCP光刻技术制造纳米电机系统 (NEMS) 提供了一个有前途的方法.