使用离子植入的化纳米管的合成和修改
L I Lisema1,2,3, M Madhuku3, R Erasmus1,2
1School of Physics, University of the Witwatersrand, Private Bag 3, Johannesburg, 2050, South Africa.
Heliyon
|July 23, 2024
概括
这项研究使用化学蒸汽沉积 (CVD) 合成化纳米结构和纳米管,然后通过离子植入引入缺陷. 离子植入在化纳米结构中显著增加了结晶体域大小.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 固态物理 固态物理
背景情况:
- 化 (BN) 纳米结构,包括纳米管 (BNNTs),通过化学蒸汽沉积 (CVD) 合成.
- 纳米材料的缺陷工程对于调整它们的特性至关重要.
- 了解在离子辐射下BN纳米结构的结构演变对于先进的应用很重要.
研究的目的:
- 使用CVD合成BN纳米结构和BNNT.
- 通过离子植入选择性地将缺陷引入BN纳米结构.
- 为了研究由离子植入引起的结构和晶体学变化.
主要方法:
- 化学蒸汽沉积 (CVD) 用于BN纳米结构合成.
- 扫描电子显微镜 (SEM) 用于形态表征.
- 拉曼光谱和牧场发射X射线衍射 (GIXRD) 用于结构和晶体分析.
- 用离子植入离子以引入缺陷.
主要成果:
- SEM证实了BN纳米结构和BNNT (30-80纳米直径) 的存在.
- 拉曼光谱显示了在离子植入的h-BN.中增强的E2g模式 (1366 cm-1).
- GIXRD揭示了一个突出的 (004) h-BN反射,表明纳米晶体材料的平均晶格参数c ≈ 0.662nm.
- 在5 × 1014离子/cm2的离子植入显著增加了在1100和1200°C合成的BN纳米结构中的拉曼衍生晶体域大小.
结论:
- CVD是有效合成BN纳米结构和BNNTs.
- 离子植入是BN纳米结构中缺陷工程的一个可行的方法.
- 该研究表明,晶体管域大小在离子植入后显著增加,突出显示了性能修改的潜力.
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