添加剂辅助形成高质量的薄膜的Sn-Oxo集群纳米纹
Yingdong Zhao1, Xinyan Huang1, Youming Si1
1State Key Laboratory of Fine Chemicals, Frontiers Science Center for Smart Materials, School of Chemical Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China.
ACS applied materials & interfaces
|July 24, 2024
概括
研究人员开发了一种新方法,可以从金属-氧基聚合物 (MOC) 制造均的薄膜,用于先进的纳米尺度图案. 添加剂使MOCs能够形成高质量的薄膜,克服结晶问题,以改进光刻应用.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 化学 化学 化学
背景情况:
- 金属-oxo集群 (MOCs) 是半导体纳米图案的有希望的.
- 许多MOC的结晶性阻碍了薄膜形成和光刻.
研究的目的:
- 开发一种方法来增强芳香四核锡-氧集群的膜形成能力.
- 为了实现高质量的薄膜制造,用于先进的光刻.
主要方法:
- 将添加剂纳入芳香四核锡-氧集群.
- 理论计算和富里埃变换红外线 (FTIR) 分析以研究分子间相互作用.
- 用于薄膜制备的螺旋涂层.
- 深紫外线 (DUV),电子束和极紫外线 (EUV) 石版为图案制作.
主要成果:
- 添加剂诱导了分子间的键,导致了晶体-凝相过渡,并抑制了结晶.
- 制造出高质量的,表面粗度<0.3 nm的均薄膜.
- 在没有光酸发生器的情况下,在DUV,电子束和EUV辐射下成功实现了纳米图案.
- 使用电子束和EUV石版分别创建了13nm和21nm的线条图案.
结论:
- 开发的方法有效地通过控制结晶来增强MOC膜形成特性.
- 新的MOC薄膜在纳米尺度图案制造方面表现出卓越的光刻性能.
- 这项工作为探索先进的光刻和薄膜技术的新MOC开辟了道路.
