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Updated: Jun 17, 2025

A Standard and Reliable Method to Fabricate Two-Dimensional Nanoelectronics

A Standard and Reliable Method to Fabricate Two-Dimensional Nanoelectronics

Published on: August 28, 2018

对二维材料进行原子精度加工,用于下一代微电子产品.

Jinkyoung Yoo¹, Chang-Yong Nam², Ezra Bussmann³

¹Center for Integrated Nanotechnologies, Los Alamos National Laboratory, Los Alamos, New Mexico 87545, United States.

|August 6, 2024

概括

像二维过渡金属二甲基化物 (TMDCs) 这样的先进材料是未来微电子的关键. 原子精密加工 (APP) 技术可以精确地制造和修改这些材料,以提高设备性能和能源效率.

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科学领域:

材料科学材料科学材料科学
微电子工程微电子工程
纳米技术纳米技术

背景情况:

信息时代的经济需要用于微电子的先进材料,推动研究超出当前的互补金属氧化物半导体 (CMOS) 限制.
原子薄的二维材料,包括过渡金属二甲基化物 (TMDCs),为下一代半导体设备提供独特的性能和缺陷工程潜力.
对"超越CMOS"和"超过摩尔"范式的探索需要为这些先进材料开发新的制造和改造技术.

研究的目的:

提供关于制造和修改二维材料的原子精密处理 (APP) 技术的视角.
突出APP在实现高性能和能源效率的二维材料基微电子技术中的作用.
讨论APP与未来半导体制造业的计量学和代码设计的整合.

主要方法:

添加剂APP技术的审查:原子层沉积 (ALD) 和2D材料受控生长的表.
减法APP技术的分析:原子层蚀刻 (ALE) 用于精确的材料去除和图案.
探索原子精度先进制造 (APAM) 用于缺陷控制和量身定制的二维材料特性.

主要成果:

添加式APP方法 (ALD,表) 允许对组合,晶度和厚度进行原子级控制,这对于设备集成至关重要.
减法APP方法 (ALE) 允许精确的蚀刻,提高2D材料的功能和可制造性.

关键词:

原子层沉积的原子层沉积.原子层蚀刻原子层蚀刻原子精度先进制造先进的制造业电子设备电子设备电子设备半导体半导体半导体两个维的材料是二维材料.

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Published on: March 7, 2018

APAM技术促进了原子规模的缺陷工程,从而实现了定制的设备功能和更好的性能.

结论:

原子精密处理 (APP) 对于实现下一代微电子中的2D材料的全部潜力至关重要.
需要一种整体的方法,结合基本的理解,过程建模和先进的计量学,以获得最佳的性能和能源效率.
继续开发APP及其与计量学和代码设计框架的整合将加速基于二维材料的半导体技术的进步.