氧化Si-和Ge-终结钻石 (100) 表面的第一原则调查
1Materials Science and Engineering Program, University of California Riverside, Riverside, California 92507, USA.
The Journal of chemical physics
|August 9, 2024
概括
钻石表面的和终端提供了增强的稳定性和独特的电子特性. 氧化进一步改变了这些特性,为半导体应用创造了新的可能性.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 表面科学是一门学科.
- 计算物理 计算物理
背景情况:
- 钻石的独特特性使其对电子产品具有吸引力.
- 气和氧气终端是标准的,但不那么强大.
- 第四组元素 (Si,Ge) 为增强稳定性提供了替代终点.
研究的目的:
- 研究IV组 (Si,Ge) 终结钻石 (100) 表面的电子和结构性质.
- 检查氧化对这些终结表面的影响.
- 将稳定性和电子特性与终结钻石进行比较.
主要方法:
- 密度函数理论 (DFT) 的计算.
- 电子属性的混合功能计算.
- 对表面重建和粘合配置的分析.
主要成果:
- 非氧化Si/Ge终端表面表现出相对稳定性,带隙减少和负电子亲和度 (NEAs).
- 氧化增强了表面的稳定性,创造了以太和的配置.
- 氧化以太表面是绝缘的,而桥接以太表面是金属的.
- 氧化表面呈现较小的带间隙 (1.1-1.7 eV),大多数表面转向正电子亲缘关系.
结论:
- 氧化IV组终结的钻石表面比终结的表面提供了更好的稳定性.
- 表面粘合有很大影响独特的结构和电子特性.
- 这些改造的钻石表面为潜在的设备应用提供了新的电子特性.
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