8-阿米诺基诺林衍生了两个希夫基平台:合成,表征,DFT洞察力,腐蚀抑制剂,分子对接和pH依赖的抗菌研究
Dhrubajyoti Majumdar1, Ankita Chatterjee2, Mehran Feizi-Dehnayebi3
1Department of Chemistry, Tamralipta Mahavidyalaya, Tamluk, 721636, West Bengal, India.
Heliyon
|August 22, 2024
概括
合成和鉴定了由8-氨基诺林衍生的两个新的希夫基. 这些化合物显示出有前途的抗微生物活性,对光电子应用的潜力和腐蚀抑制,对细菌的pH值依赖.
科学领域:
- 协调化学 协调化学
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 计算化学的计算化学
背景情况:
- 来自8-氨基 (8-AMQ) 的希夫基 (SB) 通过使用2-甲 (NAPH) 和正乙 (O-VAN) 合成.
- 在SB中,亚甲/亚胺组 (H-C=N) 为金属离子提供了协调灵活性.
- SBs在各种条件下表现出稳定性,但可以在酸性环境中进行水解.
研究的目的:
- 为了合成和结构性表征新的希夫基化合物.
- 研究合成的SBS的化学,光电子和腐蚀抑制特性.
- 评估SBs对各种细菌菌株的抗菌活性和pH依赖作用.
主要方法:
- 光谱表征 (IR,拉曼,紫外线,DRS,NMR) 和SEM-EDX分析.
- 计算研究包括分子静电潜力 (MEP),前沿分子轨道 (FMO),福井函数和非线性光学 (NLO) 分析.
- 分子对接模拟和微生物学查 (抑制区,MIC值).
主要成果:
- 成功合成和描述了两个希夫基,L1和L2.
- FMO的计算显示了显著的能量差距 (L1的3.82 eV,L2的4.08 eV),表明了强大的生物功能.
- 化合物显示出抗微生物活性,生物膜抑制,防腐蚀,以及对细菌生长的pH依赖作用.
结论:
- 合成的希夫基具有宝贵的光电子特性,并具有作为腐蚀抑制剂的潜力.
- 这些化合物对已测试的细菌菌株具有显著的抗微生物疗效.
- 对这些希夫基的进一步研究可能会导致在医学和材料科学中的应用.


