使 Telluride

Edward W Malachosky1, Matthew M Ackerman1, Liliana Stan2

  • 1QDIR, Inc., 3440 S. Dearborn St. Suite 114S, Chicago, IL 60616, USA.

概括

通过原子层沉积 (ALD) 保护体量子点 (CQD),可以防止热降解. AlD涂层增强 Telluride (HgTe) CQD膜的稳定性和光电子的电性能.