一个CMOS兼容的过程,用于6英寸蓝宝石上的≥3kV的GaN电源HEMT,使用In Situ SiN作为门介电

Jie Zhang1, Xiangdong Li1,2, Jian Ji1

  • 1Guangzhou Wide Bandgap Semiconductor Innovation Center, Guangzhou Institute of Technology, Xidian University, Guangzhou 510555, China.

Micromachines
|August 29, 2024
PubMed
概括

这项研究在蓝宝石基板上展示了高性能化高电子移动性晶体管 (GaN HEMT). 这些设备显示出出色的均性和高断电压,为先进的功率电子铺平了道路.