大规模形成密集的单层球体,使用不同的体刻版技术
Alina Fumina1,2, Anastasiya Speshilova1, Ilya Belyanov1
1Peter the Great St. Petersburg Polytechnic University, 195251 St. Petersburg, Russian Federation.
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
|September 3, 2024
概括
工业规模的合体光刻需要无缺陷的涂层. 这项研究改进了螺旋涂层,并开发了朗迈尔-布洛杰特方法,实现了高质量,大面积的单层,用于先进的口罩生产.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 表面化学 表面化学
背景情况:
- 工业规模的合式光刻要求无缺陷,大面积的涂层.
- 目前的螺旋涂层方法显示了高质量的面具生产的局限性.
- 兰穆尔-布洛杰特方法为可扩展,有序的单层形成提供了潜力.
研究的目的:
- 优化旋转涂层参数,以改善基板覆盖范围.
- 开发和评估一个单层质量控制的Langmuir-Blodgett自动化系统.
- 通过使用各种球体大小来研究表面压力对单层形成的影响.
主要方法:
- 研究了1.25微米聚烯球体的旋转涂层参数 (速度,时间,悬浮度).
- 开发了一种用于实时表面压力控制的 Langmuir-Blodgett 自动化系统.
- 使用聚烯球体 (1.25,1.8,2.1μm) 来评估单层质量.
主要成果:
- 开发的旋转涂层实现了90%的Si基板覆盖率 (76毫米),具有500μm2无缺陷的订制域.
- 新的Langmuir-Blodgett技术产生了99.5%的覆盖单层,3000μm2的无缺陷域.
- 在没有表面活性剂的情况下形成了高质量,密集的单层.
结论:
- 优化的旋转涂层和兰迈尔-布洛杰特方法显著提高了用于合体光刻的大面积单层形成.
- 开发的Langmuir-Blodgett系统可以精确控制单层质量和顺序.
- 这些进步为工业级别生产无缺陷的体面膜铺平了道路.


