状况和内皮层的稀薄
Jonathan Horsley1, Yujiang Wang1, Callum Simpson1
1CNNP Lab (www.cnnp-lab.com), Interdisciplinary Computing and Complex BioSystems Group, School of Computing, Newcastle University, Newcastle Upon Tyne, United Kingdom.
Epilepsy & behavior : E&B
|September 6, 2024
概括
患有叶 (TLE) 和史前状态 (SE) 个体表现出较大的脑内皮层缩. 这表明,脑内皮层可能对TLE患者的长期发作敏感.
科学领域:
- 神经科学是一个神经科学.
- 神经学 神经学
- 的研究研究.
背景情况:
- 状态 (SE) 是一种严重的神经疾病,与严重的发病率和死亡率有关.
- 实验研究表明,内腔皮层在长时间的发作中起作用,但人类数据有限.
- 叶 (TLE) 是一种常见的病形式,通常涉及叶结构.
研究的目的:
- 为了调查TLE和SE病史的个体是否比没有SE的TLE患者表现出更严重的内腔皮层缩.
- 用MRI来量化TLE患者与没有SE病史的ENTORHINAL缩程度.
主要方法:
- 一组357名具有耐药性TLE和100名健康对照者的队列接受了3T核磁共振扫描.
- 皮层厚度和皮层下体积是从使用细分和分片技术的T1加权解剖扫描中计算出来的.
- 使用统计分析,包括科恩的d和威尔科克森的等级和值测试,以确定效应的大小和意义.
主要成果:
- 与没有SE的TLE患者相比,TLE和SE病史的个体表现出体内内皮层厚度的减少.
- 脑内缩在两侧半球 (d=0.51,p<0.001) 中比在两侧半球 (d=0.37,p=0.01) 中更为明显.
- 在左TLE (d=0.78,p<0.001) 和右TLE (d=0.31,p=0.04) 两种情况下都观察到ipsilateral entorhinal厚度的减少,在左TLE的影响更大.
结论:
- 这些发现表明,内腔皮层参与或易受长期发作的影响,特别是在TLE的背景下.
- 在TLE患者中,SE史与显著的内腔皮层缩有关.
- 这些结果突出了TLE中SE相关的大脑变化的潜在成像生物标志物.
