可控制的化微镜头阵列的制备通过Femtosecond激光透诱导的修改辅助湿蚀刻
Kaijie Cheng1,2, Ji Wang1,2, Guolong Wang2,3
1Center of Materials Science and Optoelectronics Engineering, University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China.
Materials (Basel, Switzerland)
|September 14, 2024
概括
一种新的秒激光透诱导修饰辅助湿蚀 (FLIPM-WE) 技术增强了微镜头阵列 (MLA) 制造. 这种方法改善了对光学成像和显示器应用的控制和表面质量.
科学领域:
- 光学和光子学 在光学和光子学.
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 微型制造业的微型制造
背景情况:
- 微镜头阵列 (MLA) 对于光学成像,新能源和显示器至关重要.
- 传统的制造方法面临着激光修改影响湿蚀过程的挑战.
研究的目的:
- 为微镜头阵列开发一种新的制造技术,以提高可控性.
- 调查和优化过程参数,以提高微镜头质量.
主要方法:
- 采用了五秒激光透诱导的修饰辅助湿蚀 (FLIPM-WE).
- 对激光单脉冲能量,脉冲数和酸蚀刻持续时间的系统研究.
- 化微镜头阵列的制造.
主要成果:
- 优化过程参数导致了高质量的微镜头阵列.
- 实现了出色的几何一致性和表面质量 (Ra~30nm).
- 展示了清晰的成像能力,可调节放大 (1.3×3.0×).
结论:
- FLIPM-WE技术提供了对MLA制造的卓越控制.
- 成功制造出具有一致性能的化MLA.
- 为先进的微光学系统提供可行的技术解决方案.
