Lixin Yi1, Kunkun Nie1, Binjie Li1

  • 1Frontiers Science Center for Flexible Electronics, Xi'an Institute of Flexible Electronics (IFE), Northwestern Polytechnical University, Xi'an, 710129, China.

概括

使用可扩展的蚀刻方法创建了稳定的1T'阶段过渡金属二甲基化物 (TMD) 空洞结构. 这些材料表现出增强的演化反应 (HER) 性能和长期稳定性,这是由于铜单个原子的相位稳定.