SiGaN/AlN线 () (111)

Juliane Koch1, Patrick Häuser2, Peter Kleinschmidt1

  • 1Department of Mathematics and Natural Science, Institute for Physics, Fundamentals of Energy Materials, Ilmenau University of Technology, Ilmenau 98693, Germany.

PubMed
概括

这项研究研究了 (Si) 基板上的化 (GaN) 纳米线的电导率. 酸 (AlN) 的中间层影响导电性,为先进的半导体设备提供了洞察力.