概括
研究人员开发了一种高效的apodized网格合器 (GC) 用于薄膜酸 (TFLN) 设备. 这种简单的,单步制造实现了优异的光纤到芯片合,没有复杂的添加,为TFLN光子学设定了新的基准.
科学领域:
- 综合光子学 综合光子学
- 材料科学是一种材料科学.
背景情况:
- 薄膜酸 (TFLN) 对于先进的芯片上应用至关重要.
- 网格合器 (GCs) 促进光纤到芯片的连接,但通常需要复杂的设计来实现高效率.
研究的目的:
- 为TFLN开发高合效率 (CE) 网格合器,采用简化制造工艺.
- 为了克服现有的TFLN GCs的局限性,需要反射器或混合材料.
主要方法:
- 在600nm厚的TFLN平台上对格子周期和填充因子进行线性优化.
- 一个apodizedGC设计的演示.
- 使用标准的单个光刻和蚀刻制造步骤.
主要成果:
- 在1555 nm. 实现了2.97 dB的合损失.
- 在没有反射器或混合材料的情况下,证明了高CE.
- 在600纳米厚的X切割TFLN平台上成功制造.
结论:
- 开发的apodized GC在600nm厚的TFLN中为CE提供了一个新的基准.
- 简化制造过程使高性能TFLN GC更容易获得.
- 这一进步促进了使用TFLN技术的实际芯片上的光子应用.
