第三阶非线性光学切换和氧薄膜的值限制
Sourav Bhakta1, Rudrashish Panda1, Pratap Kumar Sahoo2,3
1School of Physical Sciences, National Institute of Science Education and Research Bhubaneswar, An OCC of Homi Bhabha National Institute, Jatni, 752050, Odisha, India.
Scientific reports
|October 1, 2024
概括
化NiO薄膜会改变它们的非线性光学特性,从和吸收转向逆和吸收. 400°C的化样本显示出极好的光学限制,而成长的NiO则适合被动Q切换.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光学是什么?光学是什么?光学是什么?
- 固态物理 固态物理
背景情况:
- 氧化 (NiO) 薄膜在光电子设备中至关重要.
- 了解它们的非线性光学 (NLO) 特性是高级应用的关键.
- 化是一种常见的调整材料性质的方法.
研究的目的:
- 为了研究化对NiO薄膜的NLO特性的影响.
- 分析非线性吸收和折射的基本机制.
- 为了确定特定的NLO应用的最佳回火条件.
主要方法:
- 五秒钟Z扫描技术使用1030nm波长的激光脉冲.
- 对开放和关闭光圈测量的分析.
- 密度函数理论 (DFT) 对电子结构的计算.
主要成果:
- 随着增长的NiO显示和吸收 (SA);由于间接的两光子吸收 (TPA),化NiO显示反向和吸收 (RSA).
- 所有样本都表现出自我关注的行为.
- DFT证实带隙变化和轨道转移与NLO反应相关.
- 在400°C时炼的NiO显示出卓越的光学限制.
结论:
- 化显著改变了NiO薄膜的NLO行为.
- 间接的TPA是化NiO中RSA的主要机制.
- 膜为光学限制和被动Q开关等应用提供可调节的NLO特性.
