通过高功率冲动磁铁龙喷射和直流磁铁龙喷射在聚钢,聚-4-乙烯和聚钢硫酸上研究黄金沉积
Yusuf Bulut1,2, Benedikt Sochor1, Kristian A Reck3
1Deutsches Elektronen-Synchrotron DESY, Notkestr. 85, Hamburg 22607, Germany.
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
|October 15, 2024
概括
高功率冲动磁铁喷射 (HiPIMS) 增强了聚合物上薄金层的形成,导致较小的岛屿距离和相比直流磁铁喷射 (dcMS) 的更好的覆盖范围. 这种方法对有机电子产品中更好的聚合物金属接口充满希望.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 表面科学是一门学科.
- 薄膜沉积的情况
背景情况:
- 调整聚合物上的薄金属层质量对于有机电子来说至关重要.
- 在现场观测薄金属层的形成是基本的,但对于高功率脉冲磁铁子喷射 (HiPIMS) 几乎没有探索.
研究的目的:
- 使用HiPIMS研究薄金 (Au) 层在现场的生长.
- 通过HiPIMS进行的Au层增长与传统的直流磁力电喷射 (dcMS) 相比较.
- 在有机电子产品中分析聚钢 (PS) 和其类型 (P4VP,PSS) 上的Au沉积.
主要方法:
- 高功率冲动磁铁喷射 (HiPIMS) 和直流磁铁喷射 (dcMS) 用于Au沉积.
- 放牧发生率散射来跟踪纳米结构的生长.
- 场发射扫描电子显微镜 (FESEM),原子力显微镜 (AFM),X射线反射计 (XRR) 和四点探针测量用于表征.
主要成果:
- 与dcMS相比,HiPIMS的结果是岛屿之间的距离较小.
- 使用HiPIMS.观察到集群密度增加和更早的透值.
- 在早期存款阶段,HiPIMS的覆盖率显著增加.
结论:
- HiPIMS可以更好地控制聚合物上薄金层的形成.
- 通过HiPIMS实现的增强覆盖和密度对聚合物金属接口有利.
- 这项研究为制造有机电子应用的薄金属层提供了对HiPIMS的基本见解.
