紧型低半波电压薄膜尼酸电光相调节器,通过光刻光学辅助化学机械蚀刻 (PLACE) 制造

科学领域:

• 光子学和光电学和光电子学.
• 材料科学 材料科学 材料科学

背景情况:

• 薄膜酸 (TFLN) 是集成光子学的一个关键材料.
• 电光相调节器是光通信和信号处理中必不可少的组件.
• 现有的调制器在调制效率和尺寸方面面临限制.

研究的目的:

• 为了介绍一款新的紧型双臂TFLN电光相调节器.
• 与传统设计相比,证明了增强的调制性能.
• 探索其在光学频率子生成中的应用.

主要方法:

• 使用光刻光学辅助化学机械蚀刻 (PLACE) 技术制造.
• 设计优化为双臂配置.
• 半波电压,波长灵敏度和插入损失的表征.
• 演示光学频率子的生成.

主要成果:

• 实现了大约3V的半波电压,优于单臂调制器的性能.
• 保持对光学波长 (1510-1600 nm) 的低灵敏度.
• 显示了2.8dB的低插入损失.
• 在2W微波功率下为光学频应用生成29个侧带信号.

结论:

• 开发的双臂TFLN相位调节器提供了卓越的调节效率和性能.
• 该技术允许紧和高效的制造TFLN设备.
• 该设备显示出高级光子应用的巨大潜力,包括光频.