尖端成像和自相一致的校准为关键维度原子力显微镜:细化和扩展到第二侧轴
1Microsystems and Nanotechnology Division, National Institute of Standards and Technology, 100 Bureau Drive, Gaithersburg, MD 20899.
Journal of micro/nanolithography, MEMS, and MOEMS : JM3
|October 25, 2024
概括
这项研究将临界维度原子力显微镜 (CD-AFM) 尖端校准扩展到较小的尖端,并包括第二个横轴. 自我一致性方法确保了高级半导体制造的精确计量技术.
科学领域:
- 计量学 计量学 计量学
- 表面科学是一门学科.
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 临界维度原子力显微镜 (CD-AFM) 对半导体计量学至关重要.
- 准确校准CD-AFM尖端宽度对于可靠的测量至关重要.
- 现有的校准方法在较小的特征尺寸方面面临挑战.
研究的目的:
- 扩展CD-AFM的自我一致性尖端宽度校准方法.
- 证明该方法适用于小于50 nm的尖端.
- 将第二个横轴纳入校准.
主要方法:
- 采用了自我一致性方法,其中三个CD-AFM尖端相互影像.
- 将该方法应用于宽度低于50nm的尖端.
- 扩展了校准,包括沿第二侧轴的测量.
主要成果:
- 成功地将自我一致性尖端宽度校准扩展到50nm以下的尖端.
- 证明了在校准过程中包含第二个侧面轴.
- 结果显示与以前的校准技术一致.
结论:
- 扩展自一致性方法为较小的CD-AFM尖端提供可追溯的尖端宽度校准.
- 这一进步提高了CD-AFM计量学的准确性和可靠性.
- 该方法支持先进半导体制造的精确测量要求.
