旋转振动辅助抛光装置 (RVAPD) 的设计,测试和实验验证,用于改进加工和表面质量
Silin Liu1,2, Yan Gu1,2, Jieqiong Lin1,2
1Jilin Provincial Key Laboratory of Micro-Nano and Ultra-Precision Manufacturing, School of Mechatronic Engineering, Changchun University of Technology, Yan'an Ave 2055, Changchun 130012, China.
Micromachines
|October 26, 2024
概括
一种新的旋转振动辅助抛光装置 (RVAPD) 提高了抛光力和材料表面质量. 这种设备有效地减少缺陷,并提高碳化 (SiC) 抛光的均性.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 机械工程 机械工程
- 表面计量学 表面计量学
背景情况:
- 在像碳化 (SiC) 这样的材料中获得高质量的表面对于先进的应用至关重要.
- 传统的抛光方法往往面临效率和缺陷减少的局限性.
- 开发先进的抛光技术对于提高材料性能至关重要.
研究的目的:
- 设计和验证一个旋转振动辅助抛光装置 (RVAPD),以提高材料表面质量.
- 为了研究压电 (PZT) 线性运动转换为旋转运动,以改善抛光.
- 为了优化RVAPD用于高频,大振幅,非共振振动抛光.
主要方法:
- 理论建模和有限元分析用于结构设计和优化.
- 开发一种灵活的机制,将线性运动转换为旋转运动.
- 通过对SiC的抛光实验进行开放循环性能测试和验证.
主要成果:
- RVAPD成功地将PZT线性运动转换为旋转运动,从而增强了抛光力.
- 优化的结构和灵活的机制 (杆和霍肯斯连接) 提高了振动参数和运动效率.
- 在SiC表面上观察到表面缺陷的显著减少和更好的均性.
结论:
- 设计的RVAPD满足高频和大振幅非共振振动抛光要求.
- 该设备提供了广泛的可调节抛光参数.
- RVAPD和拟议的方法显著提高了SiC表面质量,证明了其有效性.
