在2O3膜中用于前体的关键喷射参数,以实现高载体流动性
Junichi Nomoto1, Takashi Koida2, Iwao Yamaguchi1
1Advanced Manufacturing Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan.
ACS applied materials & interfaces
|October 30, 2024
概括
优化喷雾条件,如水蒸气部分压力,射频功率和氧气流量,是创建高质量的氧化膜的关键,具有出色的导电性和透明度.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 薄膜技术 薄膜技术
- 半导体物理 半导体物理
背景情况:
- 透明导电膜 (TCF) 对光电子设备至关重要.
- 用剂合的氧化 (IO:H) 薄膜提供高载体流动性和光学透明度.
- 无形前体的固相结晶 (SPC) 对于实现所需的薄膜特性至关重要.
研究的目的:
- 在SPC期间调查喷雾参数对IO:H薄膜晶体质感的影响.
- 了解喷雾条件,膜微观结构和载体运输特性之间的关系.
- 为了优化高流动性 (>100 cm2/Vs) spc-IO:H 薄膜的沉积参数.
主要方法:
- 系统地调查水蒸气部分压力 (PH2O),射频磁铁子喷射功率 (PRF) 和O2流量比 (fO2).
- 使用喷涂制造无形IO:H前体薄膜.
- 通过在200°C的化进行固态结晶.
- 分析晶体纹理,微观结构和载体运输特性.
主要成果:
- PH2O,PRF和fO2对于获得高可移动性spc-IO:H薄膜至关重要.
- 特定条件 (低PH2O,低PRF,适合FO2) 在前体膜中促进较低的晶石密度.
- 在前体膜中较低的晶石密度导致化后更大的晶粒.
- 化薄膜中的载体流动性 (μ) 主要与静态度偏差相关.
结论:
- 优化的喷雾参数对于控制SPC过程和实现高性能IO:H薄膜至关重要.
- 在前体沉积过程中的微观结构控制影响了谷物生长,并最终影响了载体运输.
- 软体测量偏差是最终spc-IO:H薄膜中控制载体移动性的主要因素.
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