开发和优化金属化物EUV片用于400WEUV光刻版画的开发和优化
Munsu Choi1, Chulkyun Park1, Juhee Hong1
1R&D center, S&S Tech Corporation, 42- Hosandog ro, Dalseo, gu, Deagu 42714, Republic of Korea.
Nanotechnology
|November 8, 2024
概括
金属化物片显示出极端紫外线光刻 (EUVL) 的前景,提供高透射率和耐用性. 这些EUV片保护光罩,在苛刻的EUVL环境中提高芯片生产产量.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 半导体制造业 半导体制造业
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 极端紫外线光刻 (EUVL) 使用皮膜来保护光罩免受污染.
- 目前的EUV皮膜开发面临着由于材料脆弱性和严苛的EUVL条件的挑战.
- 现有研究正在探索用于EUV片的碳基和基材料.
研究的目的:
- 调查金属化物 (MeSi) 片在高功率EUVL应用中的可行性.
- 为了制造和描述MeSi片的光学,机械,热和化学性能.
- 在EUVL条件下评估MeSi颗粒的寿命和耐用性.
主要方法:
- 制造10毫米×10毫米和110毫米×144毫米的MeSi颗粒.
- 评估光学特性:透射率 (>90%) 和反射率 (<0.04%).
- 评估机械强度 (抗拉强度>2 GPa,在2 Pa时的偏移300μm),热性能 (排放率0.3),以及通过400WEUV功率暴露 (20,000个晶圆) 的耐用性.
主要成果:
- 成功制造了各种尺寸的MeSi片.
- 实现了高光传输率 (>90%) 和低反射率 (<0.04%).
- 证明了出色的机械强度和热稳定性,适用于EUVL.
- 通过广泛的EUV暴露,经过验证的皮膜耐用性,显示最小的传导率变化.
结论:
- 金属化物 (MeSi) 片是高功率EUVL应用的可行候选者.
- MeSi片提供了令人信服的光学清晰度,机械强度和热稳定性的结合.
- 经过证明的耐用性表明,MeSi片可以显著增强光罩的保护,并提高EUVL生产产量.
