使用光学一致性断层扫描提取光学元件信息的方法
Jiucheng Nie1,2,3,4, Yukun Wang1,2,3,4, Dacheng Wang1,2,3,4
1Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130033, China.
Sensors (Basel, Switzerland)
|November 9, 2024
概括
这项研究引入了一种新的方法,用于同时测量光学薄膜厚度,曲率和缺陷,使用光谱域光学连贯性断层扫描 (SD-OCT). 这一进步提高了光学元件质量测试的高精度和效率.
科学领域:
- 光学工程是指光学工程.
- 计量学 计量学 计量学
- 非破坏性测试 不破坏性测试
背景情况:
- 精确测量光学薄膜参数 (厚度,曲率,缺陷) 对于质量控制至关重要.
- 现有的方法很难同时提取这些多个参数.
- 光谱域光学连贯性断层扫描 (SD-OCT) 为光学元件分析提供了非侵入性成像.
研究的目的:
- 开发和验证一种高精度和高效的方法,用于同时测量薄膜厚度,曲率和缺陷.
- 增强SD-OCT在光学薄膜计量方面的能力.
- 提高光学元件的质量和性能测试.
主要方法:
- 为SD-OCT提出了一个错误校正模型,以补偿延迟差异,场曲率和偏差.
- 实施了直方图均等灰色拉伸 (IAH-GS) 来处理薄膜中的强反射.
- 开发了一个窗口值切断算法,用于在OCT图像中准确识别缺陷和边界.
主要成果:
- 实现了同时测量光学薄膜的厚度,曲率和缺陷.
- 显示了1.924微米的厚度测量精度.
- 在校准和名义曲率测量之间保持1%的差异.
- 系统功能包括4.508mm的测量深度和5.69μm的分辨率.
结论:
- 拟议的SD-OCT方法可以同时,准确和高效地测量光膜厚度,曲率和缺陷.
- 这种技术显著推进了光学薄膜测试,提高了生产率和产品质量.
- 纠错模型和算法提高了SD-OCT在光学计量学中的可靠性和适用性.
