在高压下通过超低频拉曼光谱分析双层黑的结构转变分析
Yanting Shen1, Zhuo Chen1, Qifeng Zhu1
1School of Physics, Zhejiang University of Science and Technology, Hangzhou 310023, China.
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
|November 13, 2024
概括
黑 (BP) 呈现出独特的异构性质,可以通过压力调节. 这项研究揭示了双层BP中的压力诱导的结构相变和堆叠序列变化,这对于光电子设备至关重要.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 凝聚物质物理学 凝聚物质物理学
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 黑 (BP) 是一种具有独特的异构电子-光子和电子-声子相互作用的二维材料.
- BP的无otropic性质可以通过厚度,堆叠,压力和应变来调整.
- 压力对双层BP的影响,与多层或散装不同,仍未得到充分研究.
研究的目的:
- 为了研究双层黑 (BP) 的高压反应 (0-20 GPa).
- 为了识别结构阶段过渡和堆叠序列变化在双层BP.
- 分析不同双层BP堆叠序列 (AA,AB,AC) 上的压力影响.
主要方法:
- 在高水静压 (0-20 GPa) 下对双层BP进行实验性勘探.
- 使用极低拉曼转移光谱 (5-150厘米-1).
- 采用角分辨率极化拉曼光谱法 (ARPR) 来分析堆叠序列.
主要成果:
- 观察到 ~ 7 GPa 的相位过渡 (从正方体到方体) 和 ~ 14-16 GPa (到简单立方体).
- 在所有堆叠序列中证明了结构相变的可逆性.
- 首次检测到压力诱导的堆叠序列改变,AA和AC放松到AB.
结论:
- 比拉耶尔BP在高压下经历可逆结构相位过渡.
- 压力显著改变堆叠序列,影响异构性质.
- 比莱尔BP显示出对压力敏感光电子纳米设备的前景,并提供了对二维材料相互作用的见解.
