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Optics express
|November 14, 2024
PubMed
概括

一种新方法使用分布式并行神经网络来准确地建模磁修饰 (MRF) 中的工具影响函数 (TIF). 这一进步在预测精密抛光的移除率方面达到95%以上的准确性.