通过近红外连贯扫描干扰测量对高比例沟阵列的地形重建

科学领域:

• 光学计量学 在光学计量学
• 纳米制造的纳米制造
• 半导体制造业 半导体制造业

背景情况:

• 连贯扫描干涉测量 (CSI) 面临的挑战在测量高比例 (HAR) 沟阵列由于数值孔径限制.
• 标准的CSI方法与光散射和由复杂的沟几何构造引入的偏差作斗争.

研究的目的:

• 开发和验证一种新的CSI模型,用于准确地测量HAR沟阵列的地形.
• 分析和补偿由透明的HAR沟结构引起的光学偏差.
• 为了证明偏差补偿对改善地形重建的有效性.

主要方法:

• 开发了一个CSI模型,其中包含了3D点传播功能和严格的电磁场解决方案,用于透明样品.
• 利用理论角度光谱衍射用于远场干扰成像.
• 研究了沟阵列与单个沟以及对称与不对称区域中的偏差.
• 应用了基于可变形镜的偏差补偿方法.

主要成果:

• 拟议的CSI模型准确量化了透明HAR沟阵列引入的调制偏差.
• 使用可变形镜的偏差补偿证明对沟阵列有效,类似于单个沟.
• 在沟阵列 (高达20:1的比例) 上进行实验验证,证实了该模型的有效性.

结论:

• 开发的CSI模型和补偿策略使HAR沟阵列的精确地形测量成为可能.
• 这项研究为推进高比例制造工艺提供了关键的见解.
• 这些发现支持使用先进的光学计量学来应对复杂的微/纳米制造挑战.