概括
石版制作阶段的振动显著影响成像质量. 源和面具优化 (SMO) 结合振动 (移动标准偏差) 提高了稳定性,即使在阶段移动高达6纳米的情况下也保持了工艺窗口.
科学领域:
- 半导体制造业 半导体制造业
- 光学石版印刷是一种光学石版印刷.
- 计量学 计量学 计量学
背景情况:
- 在光刻扫描期间的振动严重降低了成像质量,特别是对于先进的节点.
- 由于舞台运动的不准确性,有限的光刻能力进一步受到挑战.
研究的目的:
- 为了研究石版画舞台振动对成像质量的影响.
- 在优化后在有限的过程条件下探索阶段系统的稳定性.
主要方法:
- 在源和面具优化 (SMO) 框架内开发了一种合并舞台振动错误的 lithography 模型.
- 进行了193nm浸泡光刻的联合优化,使用40nm线宽模式和不同的振动状态.
主要成果:
- 移动标准偏差 (MSD) 通过改变对比度和光强度,显著影响线宽和工艺窗口 (PW).
- 结合MSD的SMO证明了其稳定性,允许MSD在0-6nm之间变化,而不会影响PW.
结论:
- 舞台振动是影响光刻成像质量和工艺窗口的关键因素.
- SMO是一种有效的策略,可以提高光刻阶段对抗振动的强度,这对于高分辨率的图案设计至关重要.
