多平面光转换 (MPLC) LP模式多重处理器基于灰度尺度的无面膜光刻法

科学领域:

• 光学通信是指光学通信的应用.
• 纳米制造的纳米制造

背景情况:

• 多平面光转换 (MPLC) 是一种用于模式划分多重复合 (MDM) 通信的灵活技术.
• 传统的MPLC制造涉及多次蚀刻过程,导致累积的对齐错误和精度降低.
• 精确的制造对于MPLC设备至关重要,以最大限度地减少插入损失和模式交声.

研究的目的:

• 提出和演示用于制造MPLC设备的无面膜灰度光刻法.
• 通过单次曝光工艺实现高精度MPLC制造,避免对齐错误.
• 在MDM系统中使用这种新技术制造的MPLC设备的性能评估.

主要方法:

• 在MPLC设备制造中采用无面膜灰度刻法,采用单次曝光工艺.
• 将数字面罩的连续相 (0到2π) 分离为MPLC的128个步骤.
• 使用制造的MPLC设备实验证明了LP01,LP11a,LP11b和LP21模式的模式划分多重复合 (MDM).

主要成果:

• 在制造的MPLC设备中,实现了低于-22dB的模式交叉声和低于4dB的插入损失.
• 在每个LP模式上成功传输了10 Gbit/s的开关键 (OOK) 信号.
• 在高速光通信的比特误差率 (BER) 测量中,证明功率损耗低于-7dB.

结论:

• 无面膜灰度光刻是一种高效准确的方法,用于制造MPLC模式的多重复合器.
• 单次曝光技术克服了MPLC制造中的传统多重蚀刻工艺的局限性.
• 展示的MPLC设备适用于光通信系统中的高性能模式分割多重复合.